干法刻蝕的原理

干法刻蝕中的等離子體

干法刻蝕工藝是利用氣體中陰陽(yáng)粒子解離后的等離子體來(lái)進(jìn)行刻蝕的。所謂的等離子體，宇宙中99%的物質(zhì)，均處于等子狀態(tài)。其中包含了中性的粒子、離子和電子，它們混合在一起，表現(xiàn)為電中性。在干法刻蝕中，氣體中的分子和原子，通過(guò)外部能量的激發(fā)，形成震蕩，使質(zhì)量較輕的電子脫離原子的軌道與相鄰的分子或原子碰撞，釋放出其他電子，在這樣的反復(fù)過(guò)程中，最終形成氣體離子與自由活性激團(tuán)。而干法刻蝕，則利用了氣體等離子體中的自由活性激團(tuán)與離子，與被刻蝕表面進(jìn)行反應(yīng)，以此形成最終的特征圖形。