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          我的位置:首頁  >  技術文章  >  如何計算蒸鍍時需要的真空度

          如何計算蒸鍍時需要的真空度

          更新時間:2025-07-18      瀏覽次數:104

          氣體分子的運動:氣體分子的平均速度:v=(8kT/πm)1/2,由此得出:氣體分子的質量數越大,其分子的平均速度越小。

          分子流強度用J表示,則單位時間內通過單位面積上的分子數可表示為:J=(kT/2πm)1/2=1/4(nV)

          n為單位面積上的分子數,v為分子的平均速度。


          準備:一般的固體物質,其單位面積(1cm2)上的分子數大約為1014。1Pa=1N/m2;1atm,即一個標準大氣壓=760mm的Hg柱產生的壓強=101325Pa;1Bar=750mm水銀柱產生的壓強;Torr=1mm的Hg柱產生的壓強;

          真空可大致分為四個:低真空(100-0.1Pa),中真空(0.1-10-4Pa),高真空(10-5-10-7Pa),超高真空(<10-7Pa)。其對應的氣體密度以4-5個次冪下降,但其對應的氣體分子平均自由程卻以4-5次冪上升。


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